석회/석회석 슬러리를 이용한 습식 연도 가스 탈황

특징

  • 99% 이상의 탈황 효율을 달성할 수 있습니다.
  • 98% 이상의 가용성을 달성할 수 있습니다.
  • 특정 위치에 의존하지 않는 엔지니어링
  • 시장성 있는 제품
  • 무제한 부분 부하 운전
  • 세계에서 가장 많은 참고문헌을 보유한 방법

프로세스 단계

이 습식 탈황 방법의 필수 공정 단계는 다음과 같습니다.

  • 흡수제 준비 및 투여
  • SOx(HCl, HF) 제거
  • 제품의 탈수 및 조절

이 방법에서는 석회석(CaCO3) 또는 생석회(CaO)를 흡수제로 사용할 수 있습니다. 건조 또는 슬러리 형태로 첨가할 수 있는 첨가제는 프로젝트별 경계 조건에 따라 선택됩니다. 황산화물(SOx) 및 기타 산성 성분(HCl, HF)을 제거하기 위해, 흡수 영역에서 연도 가스를 첨가제가 포함된 슬러리와 강하게 접촉시킵니다. 이렇게 하면 물질 전달에 가능한 한 넓은 표면적이 확보됩니다. 흡수 영역에서 연도 가스의 SO2는 흡수제와 반응하여 아황산칼슘(CaSO3)을 형성합니다.

아황산칼슘을 함유한 석회석 슬러리는 흡수기 집수조에 모입니다. 연도 가스를 정화하는 데 사용되는 석회석은 흡수기의 정화 용량을 일정하게 유지하기 위해 흡수기 집수조에 지속적으로 주입됩니다. 그런 다음 슬러리는 다시 흡수 구역으로 펌핑됩니다.

흡수기 섬프에 공기를 불어넣으면 아황산칼슘으로부터 석고가 형성되고, 이는 슬러리의 구성 요소로서 공정에서 제거됩니다. 최종 제품의 품질 요건에 따라 추가 처리를 거쳐 시판 가능한 석고를 생산합니다.

플랜트 엔지니어링

습식 연도가스 탈황에서는 개방형 분무탑 흡수기가 널리 사용되며, 이는 두 개의 주요 구역으로 나뉩니다. 이 구역은 연도가스에 노출된 흡수 구역과 석회석 슬러리가 포집되어 수집되는 흡수기 섬프입니다. 흡수기 섬프에 침전물이 쌓이는 것을 방지하기 위해 슬러리는 혼합 장치를 통해 부유됩니다.

연기가스는 유체 레벨 위의 흡수 장치로 흘러 들어간 다음, 겹쳐지는 분무 레벨과 미스트 제거기로 구성된 흡수 구역을 통과합니다.

흡수기 섬프에서 흡입된 석회석 슬러리는 분무 레벨을 통해 연도 가스와 동류 및 역류로 미세 분무됩니다. 분무탑의 노즐 배치는 흡수기의 제거 효율에 매우 중요합니다. 따라서 유량 최적화가 매우 중요합니다. 미스트 제거기에서는 연도 가스에 의해 흡수 영역에서 운반된 액적이 공정으로 되돌아갑니다. 흡수기 출구에서 청정 가스는 포화되어 냉각탑이나 습식 스택을 통해 직접 제거될 수 있습니다. 선택적으로 청정 가스를 가열하여 건식 스택으로 보낼 수 있습니다.

흡수기 집수조에서 제거된 슬러리는 하이드로사이클론을 통해 예비 탈수됩니다. 일반적으로 이렇게 미리 농축된 슬러리는 여과를 통해 추가 탈수됩니다. 이 과정에서 얻은 물은 대부분 흡수기로 다시 회수될 수 있습니다. 일부는 순환 과정에서 폐수 형태로 제거됩니다.

산업 플랜트, 발전소 또는 폐기물 소각 플랜트의 배연 탈황은 장기간 정밀한 작동을 보장하고 극도로 가혹한 환경 조건을 견뎌내는 노즐에 의존합니다. Lechler는 노즐 시스템을 통해 분무 스크러버 또는 분무 흡수장치는 물론 배연 탈황(FGD)의 기타 공정에 대한 전문적이고 응용 지향적인 솔루션을 제공합니다.

습식 탈황

흡수장치에 석회 현탁액(석회석 또는 석회수)을 주입하여 황산화물(SOx)과 기타 산성 성분(HCl, HF)을 분리합니다.

반건식 탈황

석회 슬러리를 분무 흡수 장치에 주입하여 주로 SOx에서 발생하는 가스를 정화하지만 HCl, HF와 같은 다른 산성 성분도 정화합니다.

건식 탈황

순환 건식 스크러버(CDS)에서 SOx와 HCI 분리를 지원하기 위해 연기 가스를 냉각하고 가습합니다.


게시 시간: 2019년 3월 12일
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