Ang pangunahing prinsipyo ng pag-alis ng alikabok mula sa desulphurizing nozzle ay ang paghiwalayin ang mga partikulo ng alikabok mula sa atmospera o usok.
Una, ang mga partikulo ng alikabok ay binabasa ng tubig upang mapataas ang laki at tiyak na bigat ng partikulo. Ang mga partikulo ng alikabok ay hihiwalay mula sa atmospera o sa flue gas. Kapag nasira ang desulfurization nozzle, kailangan nating tanggalin ang nozzle. Ang tiyak na operasyon ay ang mga sumusunod:
1) ang mga naka-reserve na piyesa o ekstrang piyesa ay dapat na maayos na itago: Ang mga pangkalahatang supplier ay may espesyal na packaging at label, ibig sabihin, dapat itong ilagay nang hindi ginagamit. Ang mga tinanggal na desulfurizing nozzle ay dapat ibabad sa langis (gasolina, diesel, atbp.) upang maiwasan ang kalawang.
2) Kapag may depekto sa paggamit ng desulfurization nozzle, kailangang suriin ang nozzle inspection. Dapat gumamit ang mga gumagamit ng mga espesyal na kagamitan o angkop na kagamitan upang unti-unting buwagin at buwagin ang assembly relationship.
3) Ang mga tinanggal na nozzle ay dapat agad na ikabit sa nozzle test bench sa halip na anumang paggamot. Ayon sa itinakdang working pressure, isinasagawa ang mga katangian ng daloy, pagtukoy sa anggulo ng spray at pagmamasid sa kalidad ng spray. Maaari itong malutas kapag nag-troubleshoot.
Ang desulfurization nozzle ay umusbong sa ilalim ng mga kinakailangan sa pangangalaga sa kapaligiran. Ang pangunahing layunin ng produkto ay ang pag-desulfurize ng gas at iba pa. Ginagawa nitong mas environment-friendly ang industriyal na produksyon. Ang mga kemikal na katangian ng desulfurizing nozzle ay inilalarawan sa ibaba, at inaasahan naming matulungan ka.
Paglaban sa oksihenasyon ng mga desulphurizing nozzle
Kapag ang materyal na silicon carbide ay pinainit sa 1300 degrees sa hangin, ang proteksiyon na layer ng silicon dioxide ay nabubuo sa ibabaw ng kristal ng silicon carbide. Ang pagkapal ng proteksiyon na layer ay pumipigil sa panloob na silicon carbide na patuloy na mag-oxidize. Dahil dito, ang silicon carbide ay may mahusay na resistensya sa oksihenasyon. Kapag ang temperatura ay higit sa 1900K (1627 C), ang silica protective film ay nasisira. Sa puntong ito, ang oksihenasyon ng silicon carbide ay lumalala. Samakatuwid, ang 1900K ang pinakamataas na temperatura ng pagtatrabaho ng silicon carbide sa oxidizing atmosphere.
Paglaban sa asido at alkalina ng mga desulphurizing nozzle:
Sa aspeto ng acid resistance, alkali resistance at oxidation, ang tungkulin ng silicon dioxide protective film ay maaaring mapahusay ang acid resistance at alkali resistance ng silicon carbide.
Oras ng pag-post: Hulyo 25, 2018