Le principe de base du dépoussiérage des buses de désulfuration consiste à séparer les particules de poussière de l'atmosphère ou de la fumée.
Tout d'abord, les particules de poussière sont humidifiées par pulvérisation d'eau afin d'augmenter leur taille et leur densité. Elles se séparent ensuite de l'atmosphère ou des gaz de combustion. En cas de bris de la buse de désulfuration, il est nécessaire de la démonter. La procédure est la suivante :
1) Les pièces de rechange doivent être correctement conservées : les fournisseurs utilisent un emballage et un étiquetage spécifiques, à savoir qu’elles ne doivent pas être utilisées. Les buses de désulfuration démontées doivent être trempées dans de l’huile (essence, gazole, etc.) pour prévenir la corrosion.
2) En cas de dysfonctionnement de la buse de désulfuration en service, son démontage est nécessaire. L'utilisateur doit utiliser des outils spécifiques ou adaptés pour procéder au démontage et à la décomposition étape par étape des éléments assemblés.
3) Les buses démontées doivent être immédiatement installées sur le banc d'essai, sans aucun traitement. Conformément à la pression de service prescrite, les caractéristiques d'écoulement, l'angle de pulvérisation et la qualité de la pulvérisation sont vérifiés. Ces éléments peuvent être identifiés lors du dépannage.
La buse de désulfuration a été développée pour répondre aux exigences environnementales. Son principal objectif est de désulfurer les gaz, contribuant ainsi à une production industrielle plus respectueuse de l'environnement. Ses propriétés chimiques sont décrites ci-dessous. Nous restons à votre disposition pour toute question.
Résistance à l'oxydation des buses de désulfuration
Lorsqu'on chauffe du carbure de silicium à 1300 °C à l'air libre, une couche protectrice de dioxyde de silicium se forme à la surface du cristal. L'épaississement de cette couche empêche l'oxydation interne du carbure de silicium, lui conférant ainsi une bonne résistance à l'oxydation. Au-delà de 1900 K (1627 °C), le film protecteur de silice se rompt, aggravant l'oxydation du carbure de silicium. Par conséquent, 1900 K représente la température maximale d'utilisation du carbure de silicium en atmosphère oxydante.
Résistance aux acides et aux bases des buses de désulfuration :
En ce qui concerne la résistance aux acides, aux alcalis et à l'oxydation, la fonction du film protecteur de dioxyde de silicium peut améliorer la résistance aux acides et aux alcalis du carbure de silicium.
Date de publication : 25 juillet 2018